미국 특허청(USPTO)이 '늦장 출원(Continuing Application)' 관련 심사 기준을 대폭 강화했다. 기존에는 출원 후 2년까지 비교적 유연하게 심사를 허용했으나, 이번 개정으로 허용 기간이 1년으로 단축됐다. 이는 장기간 계속 출원을 반복하며 특허 존속 기간을 인위적으로 늘리는 관행을 차단하기 위한 조치로 풀이된다. USPTO는 출원인이 정당한 사유 없이 절차를 지연할 경우 심사 자체를 거절할 수 있는 근거를 강화했다.
본 요약은 기사 내용을 간략히 소개하기 위한 것이며, 자세한 내용은 원문 기사를 참조하시기 바랍니다.
